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在CMOS工艺中,通常采用对光刻胶曝光显影来实现所设计结构的图案制备。
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在CMOS工艺中,通常采用对光刻胶曝光显影来实现所设计结构的图案制备。
A.正确
B.错误
正确答案:A
Tag:
半导体技术导论
光刻
图案
时间:2021-10-02 21:22:25
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