硅片清洗时，由盐酸、双氧水和水所配置的清洗液的主要作用是（）
A、去除硅片表面有机物
B、去除硅片表面金属杂质
C、去除硅片表面生成的自然氧化层
D、去除硅片上的颗粒
正确答案：去除硅片表面金属杂质
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