首页
简述实际半导体中杂质与缺陷来源。
精华吧
→
答案
→
远程教育
→
联大学堂
简述实际半导体中杂质与缺陷来源。
正确答案：①原材料纯度不够；②制造过程中引入；③人为控制掺杂。
Tag：
半导体物理学
纯度
杂质
时间：2024-02-17 10:01:08
上一篇：
什么是p型半导体？
下一篇：
为什么点阵间隔越小，能带越宽？
相关答案
1.
元素半导体掺杂工艺有哪些？
2.
电子和空穴的有哪些共同之处？
3.
电子和空穴的不同之处是什么？
4.
半导体的五大基本特性。
5.
点缺陷类型有哪些？
6.
纯净晶体结构的半导体称为本征半导体。（）
7.
金属和半导体接触分为有整流特性的肖特基接触和非整流的欧姆接触。（）
8.
氧化硅层在半导体器件中起什么作用？
9.
PN结加正向电压时，呈现低电阻，具有较大的正向扩散电流。（）
10.
内部原子或分子的排列呈现杂乱无章的分布状态的固体，称为非晶体。（）
热门答案
1.
Ⅲ族元素在硅中电离时能够接受电子而产生导电空穴并形成负电中心，称此类杂质为受主杂质。（）
2.
载流子在内电场作用下的运动称为漂移运动，由此引起的电流称为漂移电流。（）
3.
费米能级难以移动的现象，称为高能度隙态的钉扎效应。（）
4.
陷阱效应是指非平衡载流子落入位于禁带中的杂质或缺陷能级。（）
5.
热电效应是电流引起的可逆热效应和温差引起的电效应的总称。（）
6.
什么是施主杂质？
7.
能级杂质在半导体复合中所起的作用。
8.
阐述影响本征半导体载流子浓度的主要因素。
9.
在半导体中掺入杂质的作用是什么？
10.
本征半导体的特征是什么？