一般说来，保护基应满足下列三点要求：
A、有利于立体化学合成的需要
B、在保持分子的其他部分结构不损坏的条件下易除去
C、容易引入所要保护的分子中
D、与被保护分子能有效的结合
正确答案：BCD
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