均匀膜层厚度是薄膜技术中的关键问题，其取决于：
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均匀膜层厚度是薄膜技术中的关键问题，其取决于：

A、蒸发源的蒸发特性

B、基板与蒸发源的几何形状

C、基板与蒸发源的相对位置

D、蒸发物质的蒸发量

正确答案：蒸发源的蒸发特性|基板与蒸发源的几何形状|基板与蒸发源的相对位置|蒸发物质的蒸发量

Tag：蒸发量 几何 形状 时间：2024-05-23 21:30:28

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