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CMOS集成电路的主要工艺分为、()、()。
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CMOS集成电路的主要工艺分为、()、()。
正确答案:P阱工艺|N阱工艺|双阱工艺
Tag:
工艺
集成电路
时间:2024-05-21 10:16:28
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通常在源区和漏区增加源漏拓展区的轻掺杂区域是为降低、减小。
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在CMOS集成电路中P沟道MOS管作为,N沟道MOS管作为()。
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