首页
闂傚倸鍊烽懗鑸电仚濠电偛鐡ㄥ畝绋跨暦濡も偓閳藉顫濋褎缍楁俊鐐€栫敮鎺斺偓姘煎墴閹苯螖閸涱喚鍙嗛梺缁樻礀閸婂湱鈧熬鎷�
婵犵數濮甸鏍窗濡ゅ懏鏅梻浣割吔閺夊灝顬嬬紓渚囧枛閿曨亪骞冨▎鎿冩晢闁逞屽墴椤㈡岸鏌嗗鍡欏弳闂佺粯娲栭崐鍦偓姘炬嫹
闂傚倷娴囧畷鐢稿窗閹拌埇鈧啴宕卞▎灞戒壕缂佹绋戝ú锕傚磻婢舵劖鐓曢柟鎹愬皺閸斿秴鈹戦姘ュ仮闁哄被鍔戦幃銈夊磼濞戞﹩浼�
缂傚倸鍊搁崐宄邦渻閹烘绀嬫慨妞诲亾鐎规洜鎳撶叅妞ゅ繐瀚€瑜旈弻锝夊箻閸愯尙妲板┑鐐插悑閻楃娀寮婚妸鈺傚亞闁稿本绋戦锟�
濠电姷鏁搁崑鐐哄垂閸洖绠伴柟闂寸蹈閸ヮ剦鏁嶆慨锝庡幘閹虫捁鐏冮梺閫炲苯澧撮柕鍫簼缁绘繂顫濋渚囨闂備礁鎲¢幐鍡涘川椤旈敮鍋撻敓锟�
闂傚倸鍊烽懗鍫曞储瑜旈幃娲Ω閳轰礁鐎悷婊呭鐢宕戦妶澶嬬厸闁告劑鍔庢晶鏇犵磼閻樺啿鐏撮柡灞炬礃瀵板嫰宕煎┑鍡╃€寸紓鍌欐缁讹繝宕板璺虹劦妞ゆ帊绶¢崯蹇涙煕閿濆骸鐏︽鐐茬箻閺佹捇鏁撻敓锟�
闂傚倸鍊烽懗鍓佸垝椤栨粌鏋堢€广儱娲ら崹婵嬬叓閸ャ劎鈯曢柛搴$Ч閺岋綁鏁愰崨顔芥嫳闁诲孩纰嶅畝鎼佸蓟閵娾晜鍋嗛柛灞剧☉椤忥拷
濠电姷鏁搁崑鐐哄垂閸洖绠伴柟缁㈠枛绾惧鏌熼幆褍顣崇痪鎯с偢閺岋繝宕橀敐鍛闂備浇宕甸崰鍡涘磿闂堟稓鏆﹂柧蹇涒偓娑欏媰闂佺粯鍔﹂崜娆撳礉閸涘瓨鈷戦悹鎭掑妼濞呮劙鏌熼崙銈嗗
闂傚倸鍊烽懗鍫曞箠閹剧粯鍋ら柕濞炬櫅缁€澶嬫叏濡炶浜惧銈冨灪瀹€鍛婃叏閳ь剟鏌嶉妷銉э紞缂佹劗鍋ら幃宄扳堪閸愵€呪偓瑙勬穿缂嶄線寮幘缁樻櫢闁跨噦鎷�
闂傚倸鍊风粈渚€骞栭銈囩煋闁哄鍤氬ú顏嶆晣闁逞屽厴閸嬫捇宕掗悙瀛樻闂佽法鍣﹂幏锟�
闂傚倸鍊风粈渚€骞栭锕€绠犳俊顖濆亹绾捐姤鎱ㄥΟ鎸庣【缂佲偓閸岀偞鐓ラ柣鏇炲€圭€氾拷
TAG
闂傚倸鍊烽懗鍫曞箠閹捐瑙﹂悗锝庡墮閸ㄦ繈骞栧ǎ顒€濡肩痪鎯с偢閺屻劑鎮ら崒娑橆伓
在每一工序中确定加工表面的尺寸和位置所依据的基准,称为()。
精华吧
→
答案
→
远程教育
→
青书学堂
在每一工序中确定加工表面的尺寸和位置所依据的基准,称为()。
A、定位基准
B、工序基准
C、测量基准
D、设计基准
正确答案:B
Tag:
基准
工序
测量
时间:2024-03-13 22:03:31
上一篇:
位置度公差属于()。
下一篇:
工步是指()。
相关答案
1.
去应力退火的加热温度()相变温度AC1,因此在整个处理过程中不发生组织转变。
2.
退火处理一般安排在()。
3.
加工轴的外圆表面时,如果上道工序的尺寸最大值为damax,最小值为damin,本工序的尺寸最大值为dbmax,最小值为dbmin,那么,本工序的双边最大加工余量2Zmax等于()。
4.
零件的结构工艺性是指()。
5.
当工件被夹具中的六个定位支承点消除了其六个自由度,则该定位属()。
6.
乙烯与下列化合物进行加成时,反应活性最小的是()
7.
上传图片用KMnO4氧化的产物是:()
8.
SN2反应中,手性产物其构型与反应物分子构型的关系是()
9.
用茚三酮试验时,下列化合物的哪一个不产生紫色反应?()
10.
测定Ba2+时,若Na2SO4中含有少量BaSO4沉淀,则测定结果
热门答案
1.
用0.2mol/LNaOH溶液滴定0.2mol/LHCl和0.2mol/L柠檬酸(H3A)的混合液(H3A的Ka1=7.4×10-4,Ka2=1.7×10-5,Ka3=4.0×10-7),如果允许滴定误差为0.2%,则终点时溶液组成应为()
2.
在某温度下,在纯水中加入一点酸,则溶液中()。
3.
下列环状化合物中最不稳定的是()
4.
有两组分析数据,要比较它们的精密度有无显著性差异,则应当用()
5.
CH3CH2CHO命名为()
6.
用KIO3标定Na2S2O3所涉及的反应是IO3-+5I-+6H+=3I2+3H2OI2+2S2O32-=2I-+S4O62-在此标定中n(KIO3):n(S2O32-)为()
7.
无变旋光现象发生的糖是()
8.
鉴别苯酚和苯胺,选用的试剂是:()
9.
下列化合物与氢气进行加成时,反应活性最小的是()
10.
羧酸不能与下列哪个化合物作用生成羧酸盐()