制造霍尔元件的半导体材料中，目前用的较多的是锗、锑化铟、砷化铟，其原因是这些（）。
制造霍尔元件的半导体材料中，目前用的较多的是锗、锑化铟、砷化铟，其原因是这些（）。
A.半导体材料的霍尔常数比金属的大
B.半导体材料的电子迁移率比较大
C.N型半导体材料较适宜制造灵敏度较高的霍尔元件
D.半导体中电子迁移率比空穴高
正确答案：A
- 上一篇：烧伤创面常用的外用抗菌药物为（）
- 下一篇：玄奘去西天取经经过了多少个国家？（）
制造霍尔元件的半导体材料中，目前用的较多的是锗、锑化铟、砷化铟，其原因是这些（）。
A.半导体材料的霍尔常数比金属的大
B.半导体材料的电子迁移率比较大
C.N型半导体材料较适宜制造灵敏度较高的霍尔元件
D.半导体中电子迁移率比空穴高
正确答案：A
相关答案
热门答案