制造霍尔元件的半导体材料中,目前用的较多的是锗、锑化铟、砷化铟,其原因是这些()。


制造霍尔元件的半导体材料中,目前用的较多的是锗、锑化铟、砷化铟,其原因是这些()。

A.半导体材料的霍尔常数比金属的大

B.半导体材料的电子迁移率比较大

C.N型半导体材料较适宜制造灵敏度较高的霍尔元件

D.半导体中电子迁移率比空穴高

正确答案:A


Tag:霍尔 半导体材料 元件 时间:2023-02-24 16:12:21

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