平面双极型晶体管的实际工艺中，基区的掺杂采用杂质总量不变的方法而形成的分布是（）。
平面双极型晶体管的实际工艺中，基区的掺杂采用杂质总量不变的方法而形成的分布是（）。
A.均匀分布
B.线性分布
C.高斯分布
D.余误差分布
正确答案：高斯分布
Tag：半导体器件原理与仿真设计 晶体管 误差
时间：2022-01-19 15:07:14